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真空等离子涂覆系统

2018年05月25日 08:24  点击:[]

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生产厂家北京泰科诺科技有限公司

设备型号:JCP-350

主要技术指标

1.真空腔室结构:立式上开盖结构,后置抽气系统,气动提开式

2.真空腔室尺寸:Φ350×H350mm

3.加热温度:室温〜500℃

4.溅射方式:向上溅射

5.旋转基片台:Φ120mm

6.膜厚不均匀性:Φ75mm范围内≤±5.0%

7.溅射靶/蒸发电极:Φ2英寸磁控靶2支,预留1个靶位

8.工艺气体: 2-3路气体流量控制

9.控制方式: PLC控制/工控机全自动控制可选

10.占地面积:(主机)L1600×W800×H1700mm

11.总功率:≥10KW

应用范围

1.设备可溅射/蒸发两用;占地面积小,价格便宜,性能稳定,使用维护成本低;

2.可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等;

3.镀膜示例:银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等;

4.单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。

地点:青岛大学工程技术中心三楼304医疗卫生实验室

测试联系人:苗大刚   邮箱chinesemdg@163.com

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