生产厂家：北京泰科诺科技有限公司
设备型号：JCP-350
主要技术指标：
1.真空腔室结构:立式上开盖结构，后置抽气系统，气动提开式
2.真空腔室尺寸:Φ350×H350mm
3.加热温度:室温〜500℃
4.溅射方式:向上溅射
5.旋转基片台:Φ120mm
6.膜厚不均匀性:Φ75mm范围内≤±5.0％
7.溅射靶/蒸发电极:Φ2英寸磁控靶2支，预留1个靶位
8.工艺气体: 2-3路气体流量控制
9.控制方式: PLC控制/工控机全自动控制可选
10.占地面积:（主机）L1600×W800×H1700mm
11.总功率:≥10KW
应用范围：
1.设备可溅射/蒸发两用；占地面积小，价格便宜，性能稳定，使用维护成本低；
2.可用于制备单层及多层金属膜、介质膜、半导体膜、磁性膜、传感器膜及耐热合金膜、硬质膜、耐腐蚀膜等；
3.镀膜示例：银、铝、铜、镍、铬、镍铬合金、氧化钛、ITO、二氧化硅等；
4.单靶溅射、多靶依次溅射、共同溅射等功能。
地点：青岛大学工程技术中心三楼304医疗卫生实验室
测试联系人：苗大刚 邮箱：chinesemdg@163.com
